Die auf R?ntgentechnologie basierenden Dünnschicht-Messtechniken wie XRD, XRR und RFA sind schnelle und zerst?rungsfreie Verfahren. Sie haben sich als besonders leistungsf?hig erwiesen für die Ex-Situ-Untersuchung kritischer Materialparameter von Dünnschichten, Heterostrukturen und übergittersystemen bis in den Nanometer-Bereich. Die Ergebnisse sind für die Optimierung der Schichtqualit?t essenziell, denn sie erh?hen die Produktionseffizienz und reduzieren Kosten. Malvern Panalytical bietet Ihnen die optimale Messtechnik für die Entwicklung und Produktionskontrolle von schichtbasierten Mikro- und optoelektronischen Bauteile an.

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