Die R?ntgenstrahlen-Messtechnik ist das ideale Werkzeug für die Dünnschichtanalyse bei der Entwicklung und Massenproduktion verschiedener Layer-strukturierter mikro- und optoelektronischen Ger?ten. Messwerkzeuge auf Basis von R?ntgenmethoden wie XRD, XRR und RFAbieten nachweislich schnellen, zerst?rungsfreien, zuverl?ssigen und pr?zisen Zugriff auf kritische Dünnschichtparameter von ultradünnen Single-Layers bis hin zu komplexen Multi-Layer-Stapeln.

R?ntgenmessverfahren haben mit Entwicklungen der Branche Schritt gehalten. Dies ist der Entwicklung neuer Anwendungen und Technologien zu verdanken. Somit stellen sie weiterhin unverzichtbare Werkzeuge dar: von der F&E-Phase über die Pilotproduktion bis zur vollst?ndig automatisierten Fertigung von Halbleiterbauelementen.

Zetium

Axios FAST

2830 ZT

Epsilon 4

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD XL

Zetium Axios FAST 2830 ZT Epsilon 4 X'Pert³ MRD X'Pert³ MRD XL

Elementare Leistung

Hoher Probendurchsatz

Fortgeschrittene Lösung für die Halbleiter-Dünnschicht-Messtechnik

Schnelle und genaue Vor-Ort-Elementaranalyse

Versatile research & development XRD system

Versatile research, development & quality control XRD system

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Typ der Messung
Dünnschicht-Messtechnik
Technologie
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
X-ray Diffraction (XRD)
Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)
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